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半導(dǎo)體LED若要作為照明光源,目前LED照明光源的光通量與熒光燈等通用性光源相比,還有一定差距。因此,LED要在照明領(lǐng)域發(fā)展,關(guān)鍵是要將其發(fā)光效率、光通量提高至現(xiàn)有照明光源的等級。要實現(xiàn)這目的,首先要提高LED本身的質(zhì)量,要研制高功率LED器件,另外要對LED照明器具進行優(yōu)化設(shè)計,提高LED的使用質(zhì)量。因此研究大功率LED光源二次光學(xué)配光設(shè)計,滿足大面積投光和泛光照明配光需求尤為迫切。通過二次光學(xué)設(shè)計技術(shù),設(shè)計外加的反射杯與多重光學(xué)透鏡及非球面出光表面,可以提高器件的取光效率。

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南京光科信息技術(shù)有限公司為您提供LED二次光學(xué)設(shè)計及OEM加工服務(wù)??梢詾槟峁┰O(shè)計解決方案,提供測試樣品及大批量供貨。

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非成像光學(xué)理論起源于二十世紀(jì)六十年代中期,1966年,Hinterberger 和Winston 在發(fā)表的一篇提高太陽能收集效率的文獻(xiàn)中首次提出“非成像光學(xué)”(Non.imaging Optics)一詞。非成像光學(xué)應(yīng)用主要目的是對光能傳遞的控制。然而成像并不被排除在非成像設(shè)計之外。非成像光學(xué)需要解決的兩個主要輻射傳遞的設(shè)計問題是使傳遞能量最大化并且得到需要的照度分布。這兩個設(shè)計領(lǐng)域通常被簡單的稱為集光和照明。

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單芯片LED面光源的尺寸一般為1mm×1mm,為達(dá)到一定的光通量要求,通常采用多芯片陣列,作為面光源使用,增加LED的排列也就增加了發(fā)光有效面積,同時也會增加光源的光學(xué)擴展量,而光源的光學(xué)擴展量不能超過系統(tǒng)的光學(xué)擴展量。因此在選擇LED光源時,要考慮LED的尺寸、排列、功率、發(fā)光角度等問題,以實現(xiàn)較高的光能利用率。

常用的LED面光源集光元件包括CPC(合拋物面聚光器)、TLP及TIR透鏡等,下面分別介紹其各自特點和設(shè)計時的考慮。

1. CPC????

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2. TLP
  光棒是照明系統(tǒng)中經(jīng)常采用的一種勻光光學(xué)元件,結(jié)構(gòu)簡單,成本低,可以做成圓柱形、方形和錐形。

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3. TIR透鏡
  CPC和TLP在大功率LED光束整形過程中雖然有很高的集光效率,但是為了提高均勻度,會導(dǎo)致系統(tǒng)過長,為了有效縮小集光系統(tǒng)尺寸,采用由非球面構(gòu)成的TIR透鏡代替CPC和TLP集光器。
a. 光能利用率
  系統(tǒng)的光能利用率用到達(dá)目標(biāo)屏幕上的光通量與LED光源所發(fā)出的光通量的比值來描述。計算公式如下:

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b. 均勻性
  將目標(biāo)屏分為m×n個方格,計算每個方格內(nèi)的照度B,求出各個區(qū)域與平均值之間的誤差S:

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  樣本標(biāo)準(zhǔn)誤差S與樣本平均值mean(Bi)就是照度均勻性:

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c. TIR透鏡優(yōu)化設(shè)計流程

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對于面型比較復(fù)雜的TIR透鏡,由于現(xiàn)有的商業(yè)照明仿真軟件不具有優(yōu)化功能,因此編制LED專用優(yōu)化程序模塊,幫助設(shè)計者提高描光和照明系統(tǒng)設(shè)計的效率與成效,結(jié)合成像系統(tǒng)優(yōu)化軟件可完成高性能的復(fù)雜照明系統(tǒng)的設(shè)計。