OptiLayer 模塊
OptiLayer 模塊的功能同大多數(shù)軟件差不多，不同處在于：1.能解決其它軟件不能再優(yōu)化的問(wèn)題；2.運(yùn)算速度快，比同時(shí)期的同類(lèi)軟件快數(shù)百倍。其具體原因可參考針式算法專(zhuān)題。
OptiChar模塊
OptiChar模塊主要通過(guò)鍍膜材料實(shí)測(cè)光學(xué)特性參數(shù)(某波段范圍內(nèi)的反射率和透過(guò)率曲線(xiàn))給出一評(píng)估曲線(xiàn)，再通過(guò)在某一基底下，考察給定薄膜理論中一些因素(厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)時(shí)，擬合出在當(dāng)前考察因素下，最接近鍍膜材料實(shí)測(cè)出的光譜特性評(píng)估曲線(xiàn)的層材料光譜特性曲線(xiàn)，進(jìn)而給出此時(shí)的層材料模型(包含層材料的厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)。擬合得越好則給出的層材料模型越接近當(dāng)前鍍膜條件下的實(shí)際情況。
且在考察和不考察某一因素時(shí)，如果擬合狀況無(wú)多大變化，則說(shuō)明當(dāng)前考察的光學(xué)特性(反射或透過(guò))對(duì)該因素不敏感。即該因素對(duì)當(dāng)前考察的光學(xué)特性無(wú)多大影響。因而再利用該層材料作設(shè)計(jì)且為當(dāng)前考察的光學(xué)特性時(shí)，可以忽略該因素的影響而不去考慮它。
如上表即薄膜理論中最重要的一些因素：不均一性、消光系數(shù)和表面粗糙度對(duì)某一層材料實(shí)際測(cè)得的光譜特性(反射和透過(guò))的影響程度。由上表我們可知在利用該層材料模型做設(shè)計(jì)時(shí)，若設(shè)計(jì)只考慮反射時(shí)，則該三因素中只需考慮不均一性；同理若設(shè)計(jì)只考慮透過(guò)時(shí)，則該三因素中需考慮不均一性和消光系數(shù)。
OptiRE模塊
??? OptiRE這一模塊為工程反演，其主要目的為向生產(chǎn)過(guò)程提供一個(gè)回饋。
??? OptiRE中采用一差異函數(shù)比較設(shè)計(jì)模型光譜特性和生產(chǎn)后薄膜實(shí)驗(yàn)測(cè)得的光譜特性， OptiRE的工程反演運(yùn)算法則是基于使該差異函數(shù)值最小。（OptiLay模塊的優(yōu)化設(shè)計(jì)則是優(yōu)化比較理論和目標(biāo)光譜特性的評(píng)價(jià)函數(shù)值）
??? 為提高生產(chǎn)質(zhì)量，我們需要消除或者使誤差最小。在OptiRE中我們考察兩類(lèi)生產(chǎn)誤差：系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差。
??? 系統(tǒng)誤差是那些在下一次沉積或加工時(shí)還會(huì)發(fā)生的誤差。系統(tǒng)誤差通過(guò)工程反演知道并能通過(guò)采用具有更精確刻度的監(jiān)測(cè)裝置；而由工程反演得出的隨機(jī)誤差信息能被用來(lái)研究生產(chǎn)誤差產(chǎn)生的原因。
??? OptiRE中還考察折射率修正、系統(tǒng)不均一性等生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的一些實(shí)際問(wèn)題。注意：應(yīng)優(yōu)先考察系統(tǒng)誤差。
小結(jié)
?????? OptiLayer:考察由設(shè)計(jì)到目標(biāo)的評(píng)價(jià)函數(shù)，通過(guò)優(yōu)化達(dá)到設(shè)計(jì)目標(biāo)，并進(jìn)行預(yù)生產(chǎn)誤差分析；
?? OptiChar:考察在各種薄膜理論中的重要因素下的層材料光譜特性和其實(shí)測(cè)光譜特性的差異函數(shù)， 得出較好的切合實(shí)際的層材料模型并得出各因素對(duì)當(dāng)前設(shè)計(jì)的影響，指出用該層材料設(shè)計(jì)時(shí)考察需哪些因素。
?? OptiRE:? 考察設(shè)計(jì)模型光譜特性和生產(chǎn)后實(shí)驗(yàn)測(cè)得模型光譜特性，通過(guò)工程反演得出生產(chǎn)中產(chǎn)生的一些誤差，將其反饋到生產(chǎn)過(guò)程中去以指導(dǎo)生產(chǎn)。
?? 通過(guò)一動(dòng)態(tài)連接庫(kù)功能可將以上幾個(gè)模塊聯(lián)系起來(lái)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜設(shè)計(jì)到生產(chǎn)等一系列過(guò)程中的設(shè)計(jì)、修改和實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)等功能。
一般設(shè)計(jì)流程：
??? 1.通過(guò)光譜光度計(jì)或橢圓偏振儀測(cè)出現(xiàn)有層材料光譜特性，將測(cè)得數(shù)據(jù)導(dǎo)入OptiChar中分析給出較好的切合實(shí)際的層材料模型并指出用該層材料設(shè)計(jì)時(shí)考察需哪些因素；
?? 2.將層材料模型導(dǎo)入OptiLayer并通過(guò)OptiLayer完成薄膜設(shè)計(jì)，并對(duì)設(shè)計(jì)模型進(jìn)行預(yù)生產(chǎn)誤差分析、清除薄層等處理使其更貼切實(shí)際和便于生產(chǎn)；
?? 3.按設(shè)計(jì)加工完薄膜后再對(duì)其進(jìn)行光譜特性測(cè)量，將測(cè)量的光譜特性導(dǎo)入OptiRE中，通過(guò)? OptiRE將其與設(shè)計(jì)模型光譜特性比較，給出反饋信息用于指導(dǎo)和監(jiān)控生產(chǎn)過(guò)程。